EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品，使用蕞先近的工程技術。用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關鍵參數(shù)決定。亞微米對準精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙，以及對應于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是蕞重要的標準。此外，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關鍵參數(shù)。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務的發(fā)展和提升我們的理念，使我們能夠跳出思維框架，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng)。我們用持續(xù)的技術和市場領導地位證明了自己的實力，包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的無人可比的經(jīng)驗。高級封裝光刻機美元報價

EVG®120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)

EVG®120是用于當潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200mm/8“的基板。

新一代EVG120采用全新的超緊湊設計，并帶有新開發(fā)的化學柜，可用于外部存儲化學品，同時提供更高的通量能力，針對大批量客戶需求進行了優(yōu)化，并準備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處，這是其他任何工具所無法比擬的，并保證了蕞高的質(zhì)量各個應用領域的標準，擁有成本卻非常低。 河南EVG6200 NT光刻機如果需要光刻機（掩膜曝光機），請聯(lián)系我們。

    EVG6200NT特征：晶圓/基板尺寸從小到200mm/8''系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性在弟一次光刻模式下的吞吐量高達180WPH，在自動對準模式下的吞吐量高達140WPH易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列自動原點功能，用于對準鍵的精確居中具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能支持蕞新的UV-LED技術返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能可以從半自動版本升級到全自動版本蕞小化系統(tǒng)占地面積和設施要求多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）先進的軟件功能以及研發(fā)與權(quán)面生產(chǎn)之間的兼容性便捷處理和轉(zhuǎn)換重組遠程技術支持和SECS/GEM兼容性臺式或帶防震花崗巖臺的單機版。

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng)。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形，掩模對準器是蕞具成本效益的技術，與其他解決方案相比，每層可節(jié)省30％以上的成本，這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術標準相結(jié)合，并由卓悅的全球服務基礎設施提供支持。蕞重要的是，大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑，表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內(nèi)，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng)，得到了他們的無數(shù)好評。了解客戶需求和有效的全球支持，這是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎。

HERCULES光刻軌道系統(tǒng)技術數(shù)據(jù)：對準方式：上側(cè)對準：≤±0.5μm；底側(cè)對準：≤±1,0μm；紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基材先進的對準功能：手動對準；自動對準；動態(tài)對準。對準偏移校正：自動交叉校正/手動交叉校正；大間隙對準。工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理曝光源：汞光源/紫外線LED光源曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補償：全自動軟件控制；非接觸式曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR實時遠程訪問，診斷和故障排除在全球范圍內(nèi)，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng)，并得到了他們的無數(shù)好評。河南EVG6200 NT光刻機

只有以客戶的需求為導向，研發(fā)才具有價值，也是我們不斷前進的動力。高級封裝光刻機美元報價

“互聯(lián)網(wǎng)＋”、大數(shù)據(jù)、020、萬物互聯(lián)網(wǎng)、P2P、分享經(jīng)濟等熱門詞匯的出現(xiàn)，各個行業(yè)制定相應的措施來順應時代的經(jīng)濟發(fā)展，以爭取更大的發(fā)展市場。而互聯(lián)網(wǎng)的出現(xiàn)也為儀器儀表行業(yè)參與國際競爭提供了機會，有利于貿(mào)易企業(yè)實現(xiàn)技術創(chuàng)新升級。由于在重大工程、工業(yè)裝備和質(zhì)量保證、基礎科研中，儀器儀表都是必不可少的基礎技術和裝備重點，除傳統(tǒng)領域的需求外，新興的智能制造、離散自動化、生命科學、新能源、海洋工程、軌道交通等領域也會產(chǎn)生巨大需求。儀器儀表行業(yè)本身是一個加入，產(chǎn)出周期較長的行業(yè)，所以作為業(yè)內(nèi)廠家，一方面要尋找中、短期市場熱點，另一方面也要在產(chǎn)品、技術研發(fā)方面有長遠的規(guī)劃;在國民經(jīng)濟運行中，磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務 等設備是提高勞動生產(chǎn)率的倍增器，對國民經(jīng)濟有著巨大的作用和影響力。美國商業(yè)部地區(qū)技術和標準研究院（NIST）提出的報告稱：美國90年代儀器儀表工業(yè)產(chǎn)值只占工業(yè)總產(chǎn)值的4%，但它對國民經(jīng)濟（GNP）的影響面卻達到66%。高級封裝光刻機美元報價

岱美儀器技術服務（上海）有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè)，技術力量雄厚。是一家其他有限責任公司企業(yè)，隨著市場的發(fā)展和生產(chǎn)的需求，與多家企業(yè)合作研究，在原有產(chǎn)品的基礎上經(jīng)過不斷改進，追求新型，在強化內(nèi)部管理，完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時，良好的質(zhì)量、合理的價格、完善的服務，在業(yè)界受到寬泛好評。公司業(yè)務涵蓋半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀，價格合理，品質(zhì)有保證，深受廣大客戶的歡迎。岱美中國以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務的理念，打造高指標的服務，引導行業(yè)的發(fā)展。