首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過(guò)“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開(kāi)母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板,經(jīng)過(guò)表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品
HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)300毫米
結(jié)合EVG的SmartNIL一個(gè)完全模塊化平臺(tái)®技術(shù)支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應(yīng)用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結(jié)合在一個(gè)平臺(tái)上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個(gè)基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺(tái)和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來(lái)配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。
湖北納米壓印一級(jí)代理EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。
具體說(shuō)來(lái)就是,MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng),因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來(lái)或正或負(fù)的電荷),以確??绺鹘M件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過(guò)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手(包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等),開(kāi)發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過(guò)電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,從而帶來(lái)更加“物理可控”的生產(chǎn)過(guò)程。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。
EVG ® 6200 NT特征:
頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言)
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG ® 6200 NT附加功能:
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
智能NIL ®
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸)
標(biāo)準(zhǔn)光刻:75至200 mm
柔軟的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL ®:**多至150mm
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外線LED光源
對(duì)準(zhǔn):軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米
自動(dòng)分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持
HERCULES NIL 300 mm提供市場(chǎng)上**納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。
EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)
應(yīng)用:高度靈活的熱壓印系統(tǒng),用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)
EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能,并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。
EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用
自動(dòng)化壓花工藝
EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)
外部浮雕和冷卻站 EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品
納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),大批量替代光刻技術(shù)。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品
客戶示范
■工藝開(kāi)發(fā)
■材料測(cè)試
■與合作伙伴共同研發(fā)
■資助項(xiàng)目
■小批量試生產(chǎn)
■IP管理
■過(guò)程技術(shù)許可證
■流程培訓(xùn)
→世界前列的潔凈室基礎(chǔ)設(shè)施
→**的設(shè)備
→技術(shù)**
→**計(jì)量
→工藝知識(shí)
→應(yīng)用知識(shí)
→與NIL的工作印模材料和表面化學(xué)有關(guān)的化學(xué)專業(yè)知識(shí)
新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。
岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。
半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品