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半導(dǎo)體晶圓承諾守信

來源: 發(fā)布時間:2022-07-27

    該晶圓層320的該***表面321與第二表面322的**小距離可以是**大距離的一半。換言之,該晶圓層320的電阻值約略是該晶圓層120的一半。在另外的實施例當(dāng)中,該***表面321與第二表面322的**小距離與**大距離的比值,可以是其他小于100%的比例。如此,在芯片的邊緣處具有較厚的晶圓層320,但是降低在芯片中間有半導(dǎo)體元器件之處的晶圓厚度。此外,可以在降低該晶圓層320中間的電阻值的同時,可以維持芯片結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,降低工藝過程中的器件失效。在一實施例當(dāng)中,該芯片邊緣較厚的晶圓層320,其左右的寬度可以介于50~200um之間。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解到,可以根據(jù)該芯片所實作的半導(dǎo)體元器件不同,以及其所要應(yīng)用的環(huán)境與規(guī)格不同,調(diào)整上述的寬度。該金屬層310可以包含彼此相對的一第三表面313與一第四表面314,該第三表面313與該晶圓層320的第二表面322彼此相接或相貼。因此,該第二表面322與該第三表面313的形狀彼此相應(yīng)。該金屬層310可以包含一或多層金屬層,該金屬層310可以包含單一金屬、合金或金屬化合物。舉例來說,該金屬層310可以包含鈦鎳銀鎳合金(tiniagni)、鎳鋁合金(alni)、鋁銅鈷合金(alcuni)、鈦銅鎳合金。晶圓的基本工藝有哪些?半導(dǎo)體晶圓承諾守信

    如果能夠減少該晶圓層120的電阻值,就可以減少圖1與圖2的電流路徑的總電阻值。此種改進(jìn)能減少消耗功率,降低熱耗損,增進(jìn)芯片的使用壽命。想要減低該晶圓層120的電阻值,可以減少該晶圓層120的厚度。但如前所述,如何在減少該晶圓層120的厚度之后,還能維持相當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)強(qiáng)度,以便抗拒應(yīng)力與/或熱應(yīng)力造成的損害。本申請?zhí)岢龅慕鉀Q方案之一,是至少在芯片的邊緣處具有較厚的晶圓層,但是降低在芯片中間有半導(dǎo)體元器件之處的晶圓厚度。如此一來,可以在降低該晶圓層120的電阻值的同時,可以維持相當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)強(qiáng)度。請參考圖3所示,其為根據(jù)本申請一實施例的半導(dǎo)體基板的結(jié)構(gòu)300的一剖面示意圖。該結(jié)構(gòu)300依序包含一半導(dǎo)體組件層130、一晶圓層320與一金屬層310。該晶圓層320夾在該金屬層310與半導(dǎo)體組件層130之間。該半導(dǎo)體組件層130已經(jīng)于圖1與圖2的說明中提到過,可以包含一或多個半導(dǎo)體組件。這些半導(dǎo)體組件可以包含垂直型的晶體管,特別是金氧半導(dǎo)體場效晶體管。在一實施例當(dāng)中,該半導(dǎo)體組件層130的厚度可以是介于2-4um之間。但本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解到,該半導(dǎo)體組件層130可以包含一或多個半導(dǎo)體組件,本申請并不限定該半導(dǎo)體組件層130的厚度、層數(shù)與其他的參數(shù)。重慶半導(dǎo)體晶圓國內(nèi)半導(dǎo)體晶圓 代工公司,硅晶圓片工藝技術(shù)!

    該***邊結(jié)構(gòu)區(qū)域與該第三邊結(jié)構(gòu)區(qū)域的寬度相同。進(jìn)一步的,為了讓基板結(jié)構(gòu)所承載的半導(dǎo)體組件的設(shè)計更加簡化,其中該***邊結(jié)構(gòu)區(qū)域、該第二邊結(jié)構(gòu)區(qū)域、該第三邊結(jié)構(gòu)區(qū)域與該第四邊結(jié)構(gòu)區(qū)域的寬度相同。進(jìn)一步的,為了讓基板結(jié)構(gòu)適應(yīng)所承載的半導(dǎo)體組件的不同設(shè)計,其中該邊框結(jié)構(gòu)區(qū)域依序包含***邊結(jié)構(gòu)區(qū)域、第二邊結(jié)構(gòu)區(qū)域、第三邊結(jié)構(gòu)區(qū)域與第四邊結(jié)構(gòu)區(qū)域,該***邊結(jié)構(gòu)區(qū)域與該第三邊結(jié)構(gòu)區(qū)域的寬度不同。進(jìn)一步的,為了讓基板結(jié)構(gòu)適應(yīng)所承載的半導(dǎo)體組件的具有更大的設(shè)計彈性,其中該***邊結(jié)構(gòu)區(qū)域、該第二邊結(jié)構(gòu)區(qū)域、該第三邊結(jié)構(gòu)區(qū)域與該第四邊結(jié)構(gòu)區(qū)域的寬度均不相同。進(jìn)一步的,為了配合大多數(shù)矩形芯片的形狀,其中該中心凹陷區(qū)域是矩形。進(jìn)一步的,為了配合大多數(shù)方形芯片的形狀,其中該中心凹陷區(qū)域是方形。進(jìn)一步的,為了讓基板區(qū)域的電阻值降低,其中該晶圓層包含與該第二表面相對應(yīng)的一***表面,在進(jìn)行該蝕刻步驟之后,在該邊框結(jié)構(gòu)區(qū)域的該***表面至該第二表面的距離,大于或等于在該中心凹陷區(qū)域的該***表面至該第二表面的距離的兩倍。進(jìn)一步的,為了讓基板區(qū)域的電阻值降低,其中在該蝕刻步驟進(jìn)行一部份后,再將該屏蔽層覆蓋到該***內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域。

    一些氣泡內(nèi)爆繼續(xù)發(fā)生,然后,在時間段τ2內(nèi),關(guān)閉聲波功率,氣泡的溫度從tn冷卻至初始溫度t0。ti被確定為通孔和/或槽的圖案結(jié)構(gòu)內(nèi)的氣泡內(nèi)爆的溫度閾值,該溫度閾值觸發(fā)***個氣泡內(nèi)爆。由于熱傳遞在圖案結(jié)構(gòu)內(nèi)是不完全均勻的,溫度達(dá)到ti后,越來越多的氣泡內(nèi)爆將不斷發(fā)生。當(dāng)內(nèi)爆溫度t增大時,氣泡內(nèi)爆強(qiáng)度將變的越來越強(qiáng)。然而,氣泡內(nèi)爆應(yīng)控制在會導(dǎo)致圖案結(jié)構(gòu)損傷的內(nèi)爆強(qiáng)度以下。通過調(diào)整時間△τ可以將溫度tn控制在溫度td之下來控制氣泡內(nèi)爆,其中tn是超/兆聲波對清洗液連續(xù)作用n個周期的氣泡**高溫度值,td是累積一定量的氣泡內(nèi)爆的溫度,該累積一定量的氣泡內(nèi)爆具有導(dǎo)致圖案結(jié)構(gòu)損傷的**度(能量)。在該清洗工藝中,通過控制***個氣泡內(nèi)爆開始后的時間△τ來實現(xiàn)對氣泡內(nèi)爆強(qiáng)度的控制,從而達(dá)到所需的清洗性能和效率,且防止內(nèi)爆強(qiáng)度太高而導(dǎo)致圖案結(jié)構(gòu)損傷。為了提高顆粒去除效率(pre),在如圖22a至22b所示的超或兆聲波清洗過程中,需要有可控的非穩(wěn)態(tài)的氣穴振蕩??煽氐姆欠€(wěn)態(tài)的氣穴振蕩是通過設(shè)置聲波電源在時間間隔小于τ1內(nèi)功率為p1,設(shè)置聲波電源在時間間隔大于τ2內(nèi)功率為p2,重復(fù)上述步驟直到晶圓被清洗干凈,其**率p2等于0或遠(yuǎn)小于功率p1。半導(dǎo)體級4-12inc晶圓片。

    所述切割腔靠下位置向前開口設(shè)置,所述切割腔的底面上前后滑動設(shè)有接收箱,所述接收箱內(nèi)設(shè)有開口向上的接收腔,所述接收腔與所述切割腔連通,所述接收腔內(nèi)存有清水,所述接收箱的前側(cè)面固設(shè)有手拉桿。進(jìn)一步的技術(shù)方案,所述動力機(jī)構(gòu)包括固設(shè)在所述動力腔底壁上的第三電機(jī),所述第三電機(jī)的頂面動力連接設(shè)有電機(jī)軸,所述電機(jī)軸的頂面固設(shè)有***轉(zhuǎn)盤,所述升降腔的上下壁之間轉(zhuǎn)動設(shè)有***螺桿,所述***螺桿貫穿所述升降塊,并與所述升降塊螺紋連接,所述***螺桿向下延伸部分伸入所述動力腔內(nèi),且其底面固設(shè)有第二輪盤,所述第二輪盤的底面與所述***轉(zhuǎn)盤的頂面鉸接設(shè)有第三連桿,所述第二輪盤直徑大于所述***轉(zhuǎn)盤的直徑。進(jìn)一步的技術(shù)方案,所述傳動機(jī)構(gòu)包括滑動設(shè)在所述移動腔前后壁上的移動塊,所述海綿向所述移動腔延伸部分伸入所述移動腔內(nèi),并與所述移動塊固定連接,所述移動腔的下側(cè)連通設(shè)有冷卻水腔,所述冷卻水腔內(nèi)存有冷卻水,所述海綿向下延伸部分伸入所述冷卻水腔內(nèi),所述移動塊的頂面固設(shè)有第四連桿,所述傳動腔的底壁上轉(zhuǎn)動設(shè)有第二螺桿,所述第二螺桿的外周上螺紋連接設(shè)有螺套,所述螺套與所述第四連桿之間鉸接設(shè)有第五連桿。進(jìn)一步的技術(shù)方案。天津12英寸半導(dǎo)體晶圓代工。遂寧半導(dǎo)體晶圓服務(wù)至上

安徽半導(dǎo)體晶圓制作流程。半導(dǎo)體晶圓承諾守信

    在本發(fā)明的一個或多個實施方式中,排氣口包含多個穿孔。本發(fā)明的另一實施方式提供一種半導(dǎo)體晶圓干燥方法。半導(dǎo)體晶圓干燥方法包含:將半導(dǎo)體晶圓設(shè)置于腔室內(nèi);對半導(dǎo)體晶圓發(fā)射微波,以將半導(dǎo)體晶圓上的水加熱并轉(zhuǎn)換成水蒸氣;以及將水蒸氣排出腔室。在本發(fā)明的一個或多個實施方式中,半導(dǎo)體晶圓干燥方法進(jìn)一步包含:旋轉(zhuǎn)半導(dǎo)體晶圓。在本發(fā)明的一個或多個實施方式中,半導(dǎo)體晶圓的轉(zhuǎn)速實質(zhì)上為10rpm。相較于公知技術(shù),本發(fā)明的上述實施方式至少具有以下優(yōu)點:(1)運(yùn)用微波移除先前的工藝殘留于半導(dǎo)體晶圓表面上的水,使得干燥過程變得簡單,從而能有效降低干燥半導(dǎo)體晶圓的作業(yè)成本。(2)由于微波產(chǎn)生器平均地環(huán)繞腔室分布,微波可均勻地進(jìn)入腔室內(nèi),并均勻地到達(dá)位于腔室內(nèi)的半導(dǎo)體晶圓,從而促進(jìn)干燥過程。(3)由于半導(dǎo)體晶圓以約10rpm(revolutionsperminute,每分鐘回轉(zhuǎn)數(shù))的低轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn),半導(dǎo)體晶圓可均勻地暴露于發(fā)射自微波產(chǎn)生器的微波,藉此可促進(jìn)干燥過程。附圖說明參照以下附圖閱讀下文中詳述的實施方式,可更透徹地理解本發(fā)明。圖1為依據(jù)本發(fā)明一實施方式的半導(dǎo)體晶圓干燥設(shè)備的剖視圖。圖2為依據(jù)本發(fā)明另一實施方式的半導(dǎo)體晶圓干燥設(shè)備的剖視圖。半導(dǎo)體晶圓承諾守信

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