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來源: 發(fā)布時間:2022-08-09

    所述拉桿45向上延伸部分伸出外界,且其頂面固設有手握球46,所述限制塊39頂面與所述滑動腔43的頂壁之間固定安裝有彈簧44,當所述橫條33帶動所述第二齒牙34向上移動時,所述第二齒牙34可抵接所述限制塊39,并使所述限制塊39向上移動,進而可使所述限制塊39離開所述限制腔42,則可使所述滑塊47能夠正常向左移動,當所述滑塊47需要向右移動時,手動向上拉動所述手握球46,使所述限制塊39向上移動,并手動向右拉動所述手拉塊40,則所述橫板41可帶動所述滑塊47向右移動。另外,在一個實施例中,所述升降塊15的內壁里固嵌有第二電機16,所述第二電機16的右側面動力連接設有切割軸51,所述切割片50固設在所述切割軸51的右側面上,所述切割腔27靠下位置向前開口設置,所述切割腔27的底面上前后滑動設有接收箱28,所述接收箱28內設有開口向上的接收腔29,所述接收腔29與所述切割腔27連通,所述接收腔29內存有清水,所述接收箱28的前側面固設有手拉桿67,通過所述第二電機16的運轉,可使所述切割軸51帶動所述切割片50轉動,則可達到切割效果,通過所述接收腔29內的清水,可使切割掉落的產品能夠受到緩沖作用,通過手動向前拉動所述手拉桿67,可使所述接收箱28向前滑動。半導體行業(yè),晶圓制造和晶圓加工。遂寧半導體晶圓推薦廠家

    目的是使得氣泡內氣體和/或蒸汽的溫度降至接近室溫t0。圖12a-12b揭示了根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的聲波晶圓清洗工藝。本實施例的聲波晶圓清洗工藝與圖10a-10c所示的實施例的差異*在步驟10050。在本實施例的聲波晶圓清洗工藝中,在時間段τ2內,電源的頻率增至f2,功率水平p2基本上等于功率水平p1。圖13a-13b揭示了根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的聲波晶圓清洗工藝。本實施例的聲波晶圓清洗工藝與圖10a-10c所示的實施例的差異*在步驟10050。在本實施例的聲波晶圓清洗工藝中,在時間段τ2內,電源的頻率增至f2,功率水平從p1降至p2。圖14a-14b揭示了根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的聲波晶圓清洗工藝。本實施例的聲波晶圓清洗工藝與圖10a-10c所示的實施例的差異*在步驟10050。在本實施例的聲波晶圓清洗工藝中,在時間段τ2內,電源的頻率從f1增至f2,功率水平從p1增至p2。由于頻率f2高于頻率f1,因此,聲波能量對氣泡的加熱不那么強烈,功率水平p2可略高于功率水平p1,但是不能太高,以確保在時間段τ2內,氣泡內氣體和/或蒸汽的溫度降低,如圖14b所示。圖15a至圖15c揭示了在聲波清洗晶圓的過程中,穩(wěn)定的氣穴振蕩損傷晶圓上的圖案結構。參考圖15a所示。汕頭半導體晶圓商家半導體晶圓的運用場景。

    進而可取出產品。另外,在一個實施例中,所述動力機構103包括固設在所述動力腔26底壁上的第三電機25,所述第三電機25的頂面動力連接設有電機軸24,所述電機軸24的頂面固設有***轉盤23,所述升降腔18的上下壁之間轉動設有***螺桿17,所述***螺桿17貫穿所述升降塊15,并與所述升降塊15螺紋連接,所述***螺桿17向下延伸部分伸入所述動力腔26內,且其底面固設有第二輪盤21,所述第二輪盤21的底面與所述***轉盤23的頂面鉸接設有第三連桿22,所述第二輪盤21直徑大于所述***轉盤23的直徑,通過所述第三電機25的運轉,可使所述電機軸24帶動所述***轉盤23轉動,進而可使所述第二輪盤21帶動所述***螺桿17間歇性往返轉動,則可使所述升降塊15間歇性升降,繼而可使所述切割片50能夠連續(xù)切割所述硅錠48。另外,在一個實施例中,所述傳動機構104包括滑動設在所述移動腔13前后壁上的移動塊53,所述海綿52向所述移動腔13延伸部分伸入所述移動腔13內,并與所述移動塊53固定連接,所述移動腔13的下側連通設有冷卻水腔14,所述冷卻水腔14內存有冷卻水,所述海綿52向下延伸部分伸入所述冷卻水腔14內,所述移動塊53的頂面固設有第四連桿54,所述傳動腔55的底壁上轉動設有第二螺桿57。

    該***邊結構區(qū)域與該第三邊結構區(qū)域的寬度相同。進一步的,為了讓基板結構所承載的半導體組件的設計更加簡化,其中該***邊結構區(qū)域、該第二邊結構區(qū)域、該第三邊結構區(qū)域與該第四邊結構區(qū)域的寬度相同。進一步的,為了讓基板結構適應所承載的半導體組件的不同設計,其中該邊框結構區(qū)域依序包含***邊結構區(qū)域、第二邊結構區(qū)域、第三邊結構區(qū)域與第四邊結構區(qū)域,該***邊結構區(qū)域與該第三邊結構區(qū)域的寬度不同。進一步的,為了讓基板結構適應所承載的半導體組件的具有更大的設計彈性,其中該***邊結構區(qū)域、該第二邊結構區(qū)域、該第三邊結構區(qū)域與該第四邊結構區(qū)域的寬度均不相同。進一步的,為了配合大多數(shù)矩形芯片的形狀,其中該中心凹陷區(qū)域是矩形。進一步的,為了配合大多數(shù)方形芯片的形狀,其中該中心凹陷區(qū)域是方形。進一步的,為了讓基板區(qū)域的電阻值降低,其中該晶圓層包含與該第二表面相對應的一***表面,在進行該蝕刻步驟之后,在該邊框結構區(qū)域的該***表面至該第二表面的距離,大于或等于在該中心凹陷區(qū)域的該***表面至該第二表面的距離的兩倍。進一步的,為了讓基板區(qū)域的電阻值降低,其中在該蝕刻步驟進行一部份后,再將該屏蔽層覆蓋到該***內框結構區(qū)域。半導體晶圓銷售電話??

    圖2是本發(fā)明中夾塊的左視圖;圖3是本發(fā)明圖1中a-a方向的局部結構示意圖;圖4是本發(fā)明中蝸輪腔的內部結構示意圖;圖5是本發(fā)明中玻璃窗和接收箱示意圖。具體實施方式下面結合圖1-5對本發(fā)明進行詳細說明,為敘述方便,現(xiàn)對下文所說的方位規(guī)定如下:下文所說的上下左右前后方向與圖1本身投影關系的上下左右前后方向一致。參照圖1-5,根據(jù)本發(fā)明的實施例的一種可防熱變形的半導體晶圓切割裝置,包括機體11,所述機體11內設有向上和向右開口的送料腔68,所述送料腔68的前后壁間左右滑動設有滑塊47,所述滑塊47的頂面上設有可用于夾持硅錠48的夾塊49,所述送料腔68的下側連通設有從動腔62,所述從動腔62內設有可控制所述滑塊47帶動所述硅錠48向左步進移動的步進機構101,所述滑塊47的右側面固設有橫板41,所述橫板41內設有開口向上的限制腔42,所述送料腔68內設有可在切割狀態(tài)時限制所述滑塊47左右晃動,并在所述滑塊47移動狀態(tài)時打開的穩(wěn)定機構102,所述送料腔68的左側連通設有切割腔27,所述切割腔27內設有可用于切割的切割片50,所述切割腔27的左側連通設有升降腔18,所述升降腔18的內壁上設有可帶動所述切割片50升降的升降塊15,所述升降腔18的下側開設有動力腔26。半導體晶圓研磨設備。遂寧半導體晶圓推薦廠家

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    所述傳動腔的上側開設有皮帶腔,所述皮帶腔的底壁上轉動設有豎軸,所述第二螺桿向上延伸部分伸入所述皮帶腔內,所述第二螺桿與所述豎軸之間傳動連接設有皮帶傳動裝置,所述豎軸向下延伸部分伸入所述動力腔內,且其底面固設有***齒輪,位于所述動力腔內的所述***螺桿外周上固設有第二齒輪,所述第二齒輪與所述***齒輪嚙合。進一步的技術方案,所述夾塊分為上下兩部分,位于上側所述夾塊固設有兩個前后對稱的卡扣,所述切割腔的前側固設有玻璃窗。本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明可有效降低半導體制作原料晶圓在切割時所產生的發(fā)熱變形問題,并且也能降低硅錠在移動送料切割過程中,由于長時間連續(xù)工作導致主軸位置偏移導致切割不準的問題,其中,步進機構能夠通過旋轉聯(lián)動水平步進移動的傳動方式,使硅錠在連續(xù)切割時能夠穩(wěn)定送料,避免了使用螺桿傳動移動送料的偏移缺陷,穩(wěn)定機構能夠在切割狀態(tài)時限制硅錠左右晃動,讓切割晶圓的厚度更加準確,動力機構和傳動機構能夠聯(lián)動運轉,且能使切割片在向下切割完成并向上移動時,能夠得到海綿相互擠壓的冷卻效果,降低切割片表面溫度,進而可降低晶圓在切割時產生的熱變形。附圖說明圖1是本發(fā)明的內部整體結構示意圖。遂寧半導體晶圓推薦廠家

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