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PCB板氟化液涂覆已經(jīng)可以在很多場(chǎng)合，代替三防漆涂覆，特別是高精尖電子領(lǐng)域，當(dāng)然，氟化物在具體噴涂工藝中還存在以下工藝難點(diǎn)：氟化液噴涂要求涂層均勻穩(wěn)定，不散射不掛膠不浪費(fèi)，避免對(duì)固化后的涂層性能產(chǎn)生影響，導(dǎo)致產(chǎn)品品質(zhì)不一；氟化液噴涂多用于精密電子零部件，點(diǎn)膠噴...

滲透性強(qiáng)本身氟化液的粘度低，加上其表面張力低，所以進(jìn)入到一些微小的縫隙中也是沒(méi)有問(wèn)題的。在低溫的環(huán)境中，其粘度變化也是比較小的。所以可以作為一些電子設(shè)備的檢測(cè)液和清洗液，深入到微小的縫隙中可以深入檢查和清潔等，使用效果也是不錯(cuò)的。 干燥性好因?yàn)殡娮臃?..

在生產(chǎn)方面，剝離液的純度對(duì)于應(yīng)用領(lǐng)域有所限制，高純度剝離液生產(chǎn)工藝復(fù)雜，且對(duì)于生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)環(huán)境控制均有較高的要求，整體技術(shù)門(mén)檻較高。在資金方面，為取得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，剝離液生產(chǎn)企業(yè)需要在研發(fā)、技術(shù)、設(shè)備方面投入大量資金，因此為實(shí)現(xiàn)剝離液產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)所需的資金門(mén)檻相對(duì)...

內(nèi)嵌觀察窗402通過(guò)觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部，工作人員可通過(guò)內(nèi)嵌的透明窗對(duì)內(nèi)部的制備狀況進(jìn)行實(shí)時(shí)查看，從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實(shí)時(shí)性。推薦的，鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9，在進(jìn)行制備時(shí)需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進(jìn)行均勻調(diào)...

Buffered Oxide Etch，BOE就是buffer oxide etch， B.O.E 緩沖蝕刻液 BOE是HF與NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蝕刻即表示49%HF水溶液：40%NH4F水溶液=1：6（體積比）的成分混合而成?？涛g速...

蘇州博洋化學(xué)股份有限公司研發(fā)中心擁有先進(jìn)的科研生產(chǎn)和檢測(cè)設(shè)備，專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。致力于電子領(lǐng)域環(huán)保、節(jié)能、環(huán)境友好化學(xué)品的研究開(kāi)發(fā)；并根據(jù)客戶的個(gè)性化需求量身定做整套解決方案，力求客戶100%滿意公司以蘇州大學(xué)、蘇州科技大學(xué)、上海交通大學(xué)等高校研發(fā)隊(duì)伍為依托，對(duì)...

蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻(dryetching)兩類。濕蝕刻就是利用合適的化學(xué)溶液腐蝕去除材質(zhì)上未被光阻覆蓋（感光膜）的部分，達(dá)到一定的雕刻深度。蝕刻精度...

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從而可以在閥門(mén)開(kāi)關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過(guò)濾器30進(jìn)行清理并不會(huì)導(dǎo)致之后的下一級(jí)腔室102的剝離進(jìn)程無(wú)法繼續(xù)。其中，腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級(jí)向玻璃基板分別提供剝離液；與多個(gè)腔室10分別對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱20，各級(jí)腔室10分...

騰田化學(xué)技術(shù)（上海）技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱：騰田化學(xué)），騰田化學(xué)坐落于上海五角場(chǎng)萬(wàn)達(dá)廣場(chǎng)，依托復(fù)旦大學(xué)·東華大學(xué)·華東理工大學(xué)·中科院有機(jī)所·上海石油商品研究所就相關(guān)材料領(lǐng)域建立研發(fā)中心，憑借強(qiáng)大的科研實(shí)力，多年豐富的研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，共同建立化工材料分析中心與新...

緩沖氧化物蝕刻劑(BOE)是一種用于微細(xì)加工的液體腐蝕劑。它的主要用途是蝕刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化銨(NH4F)和氫氟酸(HF)等緩沖液的混合物。濃縮的HF蝕刻二氧化硅的速度太快，不能很好地進(jìn)行工藝控制，同時(shí)也會(huì)剝落用于光刻...

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據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的蝕刻液，其特征在于，進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/ 或α-羥基羧酸的鹽。 根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻液，其特征在于，所述α-羥基羧酸為選自由酒石酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的...

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PCB行業(yè)制作工序中產(chǎn)生大量微蝕液、蝕刻液、硝酸銅等含有不同濃度的銅等金屬，回收價(jià)值高，且外排廢水中也會(huì)有少量的銅重金屬存在，如不能合理的進(jìn)行環(huán)保處理，一方面造成資源的嚴(yán)重浪費(fèi)，另一方面重金屬排放后滲入至土壤及水源之中，即會(huì)對(duì)我們賴以生存的自然環(huán)境及自身的健...

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離子膜電解法是電解槽30陽(yáng)極可以為石墨板或鈦陽(yáng)極板，陰極為鈦板，用離子膜將陽(yáng)極液和陰極液隔離開(kāi)，陽(yáng)極為需要再生的蝕刻母液，陰極為銅離子20~100g/l，酸度，電解槽30由數(shù)個(gè)單元電解槽串聯(lián)組成，單元電解槽30由一個(gè)或者數(shù)個(gè)陽(yáng)極?？蚪M成，酸性蝕刻廢液經(jīng)循環(huán)槽2...

蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人：丁 先 生 公司地址：蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號(hào)分機(jī)號(hào)： 歡迎光大顧客朋友來(lái)電咨詢二甘醇，同時(shí)也歡迎各位來(lái)我司參觀交流！蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人：丁 先 生 公司地址：蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號(hào)歡迎光大...

這兩種體系再生設(shè)備設(shè)備不僅可以節(jié)省約30%的物料成本，還降低廢水處理成本，且可以電解出金屬銅。二、蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)在電子線路版（PCB）蝕刻過(guò)程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到比較好的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽（...

銅酸蝕刻液是半導(dǎo)體和顯示技術(shù)中一類重要的原材料。半導(dǎo)體、薄膜晶體管液晶顯示器)，有機(jī)發(fā)光半導(dǎo)體)等微電路原件首先由銅、鉬或其合金在玻璃基板或者絕緣層上形成一定厚度的膜層，再用光刻膠形成圖案，然后用銅酸蝕刻液將圖案外的金屬蝕刻掉，再用去光阻液將光刻膠去掉，以進(jìn)行...

蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)在電子線路版（PCB）蝕刻過(guò)程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度水平，蝕刻用過(guò)后的（以下稱[用后蝕刻液]）...

微蝕液包括過(guò)硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運(yùn)用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。我們公司目前對(duì)過(guò)硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計(jì)了不同的循環(huán)再生設(shè)備。無(wú)論...

離子膜電解法是電解槽30陽(yáng)極可以為石墨板或鈦陽(yáng)極板，陰極為鈦板，用離子膜將陽(yáng)極液和陰極液隔離開(kāi)，陽(yáng)極為需要再生的蝕刻母液，陰極為銅離子20~100g/l，酸度，電解槽30由數(shù)個(gè)單元電解槽串聯(lián)組成，單元電解槽30由一個(gè)或者數(shù)個(gè)陽(yáng)極?？蚪M成，酸性蝕刻廢液經(jīng)循環(huán)槽2...

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蝕刻是印制電路板制造的重要工序，電路板廠生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生大量高銅蝕刻廢液，蝕刻廢液屬于危險(xiǎn)液體廢物，含有大量的銅、氯等污染成分，如果不經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的處理就直接排放到環(huán)境中，不僅造成資源的浪費(fèi)和損失，而且也會(huì)對(duì)人類和自然環(huán)境造成很大的危害。 另外，蝕刻廢液中...

cm3·mol-1）：36.氣相標(biāo)準(zhǔn)燃燒熱(焓)(kJ·mol-1)：37.氣相標(biāo)準(zhǔn)聲稱熱(焓)(kJ·mol-1)：38.氣相標(biāo)準(zhǔn)熵(J·mol-1·K-1)：39.氣相標(biāo)準(zhǔn)生成自由能(kJ·mol-1)：40.氣相標(biāo)準(zhǔn)熱熔(J·mol-1·K-1)...

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全球范圍內(nèi)，緩沖氧化物蝕刻液市場(chǎng)主要集中在北美、亞太以及歐洲等地區(qū)，其中亞太地區(qū)緩沖氧化物蝕刻液市場(chǎng)增速較快，在該區(qū)域內(nèi)，中國(guó)、日本以及韓國(guó)是緩沖氧化物蝕刻液市場(chǎng)主要參與者。近年來(lái)，伴隨全球產(chǎn)業(yè)向東轉(zhuǎn)移，我國(guó)半導(dǎo)體、平板顯示等產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)大，這為緩沖氧化...

蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻，其中，濕蝕刻是采用化學(xué)試劑，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達(dá)到蝕刻的目的，薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft～lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過(guò)程中銦錫氧化物...

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