3D打印高性能增材制造技術(shù)擺脫了模具制造這一明顯延長(zhǎng)研發(fā)時(shí)間的關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié)，兼顧高精度、高性能、高柔性，可以快速制造結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜的零件，為先進(jìn)科研事業(yè)速研發(fā)提供了有力的技術(shù)手段。在微光學(xué)領(lǐng)域，Nanoscribe表示，其3D打印解決方案“破壞和打破以前復(fù)雜的工作流程，克服了長(zhǎng)期的設(shè)計(jì)限制，并實(shí)現(xiàn)了先進(jìn)的微光驅(qū)動(dòng)的前所未有的應(yīng)用。 換句話說，Photonic Professional GT系列與您的平均3D打印機(jī)不同，因此可用于創(chuàng)建在其他機(jī)器上無法生產(chǎn)的功能性光學(xué)產(chǎn)品。該系列與正確的材料和工藝相結(jié)合，據(jù)稱允許用戶“直接制造具有比標(biāo)準(zhǔn)制造方法，高形狀精度和光學(xué)平滑表面幾何約束的聚合物微光學(xué)部件”。增材制造技術(shù)正在推動(dòng)制造業(yè)的數(shù)字化轉(zhuǎn)型和創(chuàng)新。山東德國增材制造

借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長(zhǎng)、遷移和干細(xì)胞分化。此外，3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。Nanoscribe增材制造無掩膜光刻增材制造可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的快速制造。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。金屬3D打印技術(shù)具有廣闊的應(yīng)用前景。

   3D打印高性能增材制造技術(shù)擺脫了模具制造這一明顯延長(zhǎng)研發(fā)時(shí)間的關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié)，兼顧高精度、高性能、高柔性，可以快速制造結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜的零件，為先進(jìn)科研事業(yè)速研發(fā)提供了有力的技術(shù)手段。在微光學(xué)領(lǐng)域，Nanoscribe表示，其3D打印解決方案“破壞和打破以前復(fù)雜的工作流程，克服了長(zhǎng)期的設(shè)計(jì)限制，并實(shí)現(xiàn)了先進(jìn)的微光驅(qū)動(dòng)的前所未有的應(yīng)用。 換句話說，Photonic Professional GT系列與您的平均3D打印機(jī)不同，因此可用于創(chuàng)建在其他機(jī)器上無法生產(chǎn)的功能性光學(xué)產(chǎn)品。該系列與正確的材料和工藝相結(jié)合，據(jù)稱允許用戶“直接制造具有比標(biāo)準(zhǔn)制造方法，高形狀精度和光學(xué)平滑表面幾何約束的聚合物微光學(xué)部件”。3D打印機(jī)還縮短了設(shè)計(jì)迭代階段，允許用戶在“短短幾天”內(nèi)將想法轉(zhuǎn)化為功能原型增材制造輪的生產(chǎn)流程也具有很高的靈活性。Nanoscribe增材制造無掩膜光刻

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   Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡，基板，材料和自動(dòng)化流程。山東德國增材制造