高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學質(zhì)量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。另外,Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。歡迎咨詢無掩膜光刻技術(shù)正嶄露頭角,成為一種具有巨大潛力的技術(shù)。湖北2PP無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)
作為基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的微細加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?!拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術(shù)而感到自豪,憑借我們的技術(shù)支持,我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示?;?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為前列科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?!拔覀兎浅F诖尤隒ELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道。重慶2GL無掩膜光刻3D微納加工由于沒有物理掩膜,無掩膜光刻技術(shù)可以快速地制造出大量的芯片,提高了生產(chǎn)效率。
QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。我們提供高精度無掩膜光刻寫服務(wù),確保圖案清晰無模糊。
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應(yīng)用的快速原型制作。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢。江蘇雙光子無掩膜光刻3D微納加工
無掩膜光刻在生活中的應(yīng)用。湖北2PP無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)
光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計會有分辨率不足和光學質(zhì)量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預(yù)先設(shè)計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結(jié)構(gòu),包括光子集成電路,光纖頂端和預(yù)制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu)。湖北2PP無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)